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真空镀膜台
设备用途及特点

多靶位设计，可镀复合或多层膜

成膜迅速、膜层均匀性好、结合力强

设备主要用于在零件表面快速沉积镀膜

设备规格参数


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中国电子科技集团有限公司 中国电子科技集团公司第十二研究所 中国电子学会真空电子学分会