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真空碳化台
设备用途及特点

用于在各类器件及瓷杆表面沉积碳膜

精确控制碳化三要素(温度、压力、时间),一致性好

设备规格参数

温度:1300℃

极限真空度:≤5×l0-1 Pa

充气压强调节范围:10~2000Pa